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TSMC FinFET 跃进背后的先驱:专访陈明憓
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制造/代工
观点
chenming hu
半导体
信号强度 1
1 条来源
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TSMC FinFET 跃进背后的先驱:专访陈明憓
2008年,作者陪同加州大学伯克利分校研究生代表团访问实验室,期望会见陈明憓教授,但教授当天不在,由学生接待。记忆中最 vivid 的是实验室墙上几幅与晶体管、半导体物理方程无关的泼溅水墨画。
2026-11-01
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