TSMC 和 ASML 宣布2031年光罩目标，高 NA EUV 供应商加紧步伐

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TSMC 和 ASML 宣布2031年光罩目标，高 NA EUV 供应商加紧步伐

TSMC和ASML计划从2030年起引入高NA EUV技术，使用12英寸光罩支持先进制程生产。

2026-11-05

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